DopingConsommeBlog

EUV覇権のパラドックス：米国の知とASMLの術 ― 半導体革命の裏側で繰り広げられたグローバル・ドラマ #EUVリソグラフィー #ASML独占 技術開発の挑戦、地政学的駆け引き、そして市場競争の観点からEUVリソグラフィーの真実に迫ります。 目次 第一章：序章 ― 半導体時代の「光」を巡る物語 1.1. 本書の目的と構成：なぜ、この物語は重要なのか？ 1.2. 要約：EUVの奇跡と裏切りの物語 第二章：微細化の宿命 ― 光の限界と代替技術の迷走 2.1. ムーアの法則と終わりなき微細化の圧力 2.2. 光の回折現象：避けて通れない物理の壁 2.3. 迷走する代替案：電子ビームとX線リソグラフィーの挫折 2.3.1. 電子ビームリソグラフィー：精度と引き換えのスループット 2.3.2. X線リソグラフィー：シンクロトロンとマスクの悪夢 2.4. スターテヴァントの法則：光学リソグラフィーの驚くべき粘り 第三章：登場人物紹介 ― 夢を追った者たち、覇権を掴んだ者たち 第四章：歴史的位置づけ ― 半導体技術史におけるEUV革命の意義 第五章：EUVの夜明け ― 多層ミラーの奇跡と「X線を曲げる」挑戦 5.1. 木下博雄のビジョン：XPLの限界を超えて 5.2. 多層ミラーの進化：X線反射の実現への道 5.3. 科学界の懐疑：『X線を曲げる』ことへの抵抗 第六章：未曾有の工学的挑戦 ― デブリとの戦いと超精密技術 6.1. デブリ問題との壮絶な戦い：プラズマ光源の安定化 6.2. サブナノメートルの精度：超精密多層ミラー製造の極致 6.3. 『軟X線』から『EUV』へ：名称変更の戦略的意図 第七章：米国主導の研究開発 ― 巨額の投資と『95%ゴリラ』の誕生 7.1. DARPAと国立研究所：国家プログラムの推進 7.2. インテルの大胆な賭け：2億ドルの初期投資 7.3. 議会の転換点：DOE資金打ち切りとEUV-LLCの設立 第八章：市場の地政学 ― ASMLの台頭と米日半導体戦争の影 8.1. 崩壊する米国リソグラフィー産業：ニコンとキヤノンの隆盛 8.2. ASMLの『中立地』戦略：技術ライセンス獲得の特異性 8.3. 米国のライセンシーの終焉：買収と撤退の波 8.4....